yy.vip易游-行业标准）--薄膜干涉膜厚测量系统校准规范

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　　今日，由中国国际经济技术合作促进会批准发布的团体标准《薄膜干涉膜厚测量系统校准规范》（T/CIET 2298—2026）正式发布并实施！广州景颐光电科技有限公司作为核心起草单位。

　　长期以来，薄膜干涉膜厚测量系统（Spectral Reflectance/Transmittance Interferometry）在半导体前道工艺、光学镀膜质量控制、新型显示材料研发等领域的应用日益广泛，但国内始终缺乏统一的计量校准规范。不同厂商设备间测量结果可比性差、量值溯源链不完整，已成为制约高端制造业高质量发展的瓶颈。

　　此次发布的T/CIET 2298—2026标准，首次系统构建了分光干涉式膜厚测量系统的全链条计量技术体系。

　　• I段（10-100nm）与II段（100nm-10μm）：采用方法I（基于物理模型光谱反演），应对干涉周期不完整场景

　　• III段（10-100μm）与IV段（100μm-1mm）：采用方法II（基于FFT频谱分析），处理多周期干涉信号

　　• A段（190-360nm，紫外）：波长示值误差±0.3nm，光谱反射比重复性≤0.1%

　　• B段（360-900nm，可见-近红外）：波长示值误差±0.5nm，厚度测量误差±0.2%

　　• C段（900-2000nm，近红外）：针对厚膜测量优化，波长重复性≤0.5nm

　　标准系统规定了波长示值误差、光谱带宽、光谱反射（透射）比示值误差与重复性、厚度测量示值误差与稳定性等10项关键计量指标，并提供了基于GUM法的不确定度评定示例（附录C），确保校准结果的计量溯源性。

　　作为标准起草单位中专注于光谱检测与光学精密测量的代表，景颐光电技术团队深度参与了：

　　✅ 光谱反射/透射比测量准确性验证：针对标准板校准流程，提供了多波段反射率标准值的不确定度评估方案

　　✅ 系统重复性与稳定性测试方法：制定了1h内5组测量、每组10次的稳定性评价规范

　　✅ 厚度标准片选型技术方案：参与附录A中关于层叠式、空气间隙式、薄片式三类标准器具的技术要求制定

　　我们将多年来在薄膜干涉光谱分析、光学常数反演算法、系统误差修正等领域的技术积累转化为标准条款，确保了规范的科学性与工程实用性。

　　（1） 计量溯源链贯通：为国产薄膜测厚仪提供了从波长标准（汞灯/氦氖激光器）到厚度标准（经椭偏仪/干涉仪定值的标准片）的完整校准路径

　　（2）跨平台数据可比：统一了反射式与透射式两种结构形式的评价指标，解决了不同品牌设备间测不准、对不上的历史难题

　　（3） 产业质量基线提升：在半导体SiO₂栅氧化层厚度控制、光学增透膜镀膜监控、VCSEL芯片外延层检测等场景中，可将膜厚测量不确定度控制在1nm（纳米级）或0.2%（微米级）水平

　　技术立标，质量先行！T/CIET 2298—2026的发布标志着我国薄膜干涉测量技术迈入标准化新阶段。景颐光电将继续深耕精密光谱检测技术，以标准引领创新，以计量夯实质量，为中国高端装备制造业的转型升级贡献光学力量！

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